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產(chǎn)品展示
  • 反滲透+EDI超純水設(shè)備

設(shè)備名稱:反滲透+EDI超純水設(shè)備

設(shè)備型號(hào):FEAT-CW
清洗對(duì)象:超純水
使用廠家:半導(dǎo)體、太陽能、硅片、光學(xué)、光電行業(yè)

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詳細(xì)參數(shù) Parameter

超純水設(shè)備應(yīng)用范圍                                              


1、電子材料加工、單晶硅半導(dǎo)體、半導(dǎo)體材料、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、印刷電路板、集成電路;


2、LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像管;


3、超純材料和超純化學(xué)劑導(dǎo)纖維和光盤;


4、汽車、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產(chǎn)品;


超純水設(shè)備技術(shù)參數(shù)                                              


機(jī)器型號(hào):N 1T-DI


制 水 量:1 T/H


主要管徑:DN 32


工作壓力:≤1.0MPa


產(chǎn)水電阻率:18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm


進(jìn)水水源:城市自來水


進(jìn)水水溫:5-35℃


機(jī)器電源:380V/50HZ

超純水設(shè)備產(chǎn)品介紹                                            

采用國際先進(jìn)的反滲透裝置,配套進(jìn)口混合離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備和紫外線滅菌器、精密過濾器,出水水質(zhì)符合電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)),取代蒸餾水,滿足大專院校、科研機(jī)構(gòu)和工業(yè)企業(yè)的實(shí)驗(yàn)、科研和生產(chǎn)對(duì)高純度純水的要求。

    該設(shè)備廣泛應(yīng)用于電鍍工藝去離子水、電池生產(chǎn)工藝用純水、汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗純水、鍍膜玻璃用純水、紡織印染工藝所需的除硬除鹽水系統(tǒng)。超純水制造技術(shù)的發(fā)展極大地推動(dòng)了半導(dǎo)體和電子工業(yè)的技術(shù)發(fā)展。


超純水設(shè)備工藝說明                                              


電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種:


  1、離子交換樹脂制備超純水設(shè)備的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:


原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床→后置保安過濾器→用水點(diǎn)(特點(diǎn):污染比較大,自動(dòng)化程度低,初期投入低)

  2、反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備超純水設(shè)備的方式,其基本工藝流程為:


原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設(shè)備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn) (特點(diǎn):污染小,自動(dòng)化程度高,初期投入中等,價(jià)格適中)

  3、反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備超純水設(shè)備的的方式,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋?


原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(diǎn)(特點(diǎn):環(huán)保,自動(dòng)化程度高,初期投入大,價(jià)格相對(duì)比較貴)


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